日本光刻巨頭：中國企業想掌握EUV芯技術難度很大
5月23日消息，據報道，近日日本光刻膠巨頭JSR的首席執行官埃里克約翰遜（Eric Johnson）在接受採訪時表示，儘管中國在努力推動晶片的自給自足，但中國半導體產業必要的基礎設施不足，比如很難掌握基於極紫外（EUV）光刻的複雜晶片製造技術，發展先進位程的晶片製造技術將非常困難。
約翰遜指出，「我認為中國也非常想發展自己的EUV（極紫外光刻）能力和相關的生態系統（比如EUV光刻膠）。但坦率地說，我認為他們要做到這一點非常困難。」
實際上，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）CEO溫彼得也在今年1月表達過和約翰遜類似的觀點，認為「中國不太可能複製出頂尖的EUV光刻機」。但他當時補充稱，永遠別那麼絕對，中國的物理定律和全世界是一樣的，「他們肯定會嘗試」。
另外，對於中國在光刻膠領域的追趕，以及希望在高端光刻膠技術上的突破，約翰遜認為，即便中國獲得相關化學成分的確切資料，但在純度、精度及製造上都非常困難，且中國也沒有供應鏈支援。但中國當前積極投資成熟的晶片技術，也是不容忽視的一部分，「人們還沒充分意識到，中國有多少機會可以不依賴這些先進位程。」
資料顯示，JSR公司成立於1957年，中文名為日本合成橡膠，是全球主要的光刻膠供應商之一。在應用方面，光刻膠是半導體、液晶面板（LCD）、印刷電路板（PCB） 等產業的重要原材料。
在半導體領域，目前光刻機曝光光源一共有六種，分別是紫外全譜（300～450nm）、 G 線（436nm）、 I 線（365nm）、深紫外（DUV，包括 248nm 和 193nm）和極紫外（EUV），相對應於各曝光波長的光刻膠也應運而生，對應分別為，G 線光刻膠、I 線光刻膠、KrF光刻膠、 ArF光刻膠、EUV光刻膠。
目前，在全球半導體光刻膠領域，主要被日本合成橡膠（JSR）、東京應化（TOK）、美國杜邦、日本信越化學、富士電子、羅門哈斯等頭部廠商所壟斷，其中JSR佔據了28%的市場。
而在高端半導體光刻膠市場上，JSR在ArF光刻膠領域以24%的市場份額位居全球第一。在EUV光刻膠方面，TOK和JSR有較高的份額。
從中國的光刻膠市場來看，低端的中g線/i線光刻膠自給率約為20%，KrF光刻膠自給率不足5%，而高端的ArF光刻膠完全依賴進口，是中國半導體的卡脖子技術之一。
至於EUV光刻膠，由於美國的阻撓，大陸目前無法進口EUV光刻機，因此國產EUV光刻膠的開發自然也無從談起。
