早年被Intel孤立台積電大佬講述內幕：靠一絕技翻身

這幾年中，台積電一躍成為半導體製造行業的大哥，不僅是全球晶圓代工的絕對主力，而且先進製程也超越了Intel、三星等對手，更是首發了EUV光刻製程，明年還要量產3nm製程。

台積電的崛起過程也不是一帆風順的，實際上還非常艱辛，因為20年前Intel等公司如日中天的時候，一度將台積電排除在先進製程之外。

前台積電研發副總林本堅日前提到了這段往事，他指出2002年左右，Intel拉攏摩托羅拉、AMD等公司成立了EUV LCC聯盟，一起出錢出力研發EUV光刻設備，希望用於未來的60nm、40nm等製程。

當時台積電也希望參與EUV聯盟，但是被排擠，因為只限於6家公司，最終IBM搶到最後一個位置，台積電無緣。

雖然台積電沒有加入EUV聯盟，但是他們並沒有灰心，轉而研究了沉浸式光刻技術（光刻製程與折射率相關，水中的折射率比空氣要高，有利於提高光刻解析度），最終實現了翻身，現在沉浸式光刻技術已經成為主流，ASML的先進光刻機都應用了該技術。

林本堅指出，當年參與EUV聯盟的半導體企業中，除了Intel，其他5家公司已經退出晶片製造了。

PS：對於台積電來說，林本堅是台積電製程翻身的大佬之一，他在IBM公司工作了22年，主要從事光刻技術研究，2000年被蔣尚義招募到台積電，2002年提出沉浸式光刻技術，帶領台積電在晶片製造上翻身，奠定了今日的基礎，功不可沒。