納米終結 埃米級晶片上路：靠ASML革命性新光刻機了
當前，量產的電晶體已經進入4nm尺度，3nm研發也已經凍結進入試產。
在11月於日本舉辦的線上ITF大會上，半導體行業大腦imec（比利時微電子研究中心）公布了未來十年的技術藍圖。
據悉，2025年後，電晶體微縮化進入埃米尺度（Å，angstrom，1埃 = 0.1納米），時間節點的規劃是，2025年A14（14Å=1.4納米）、2027年為A10（10Å=1nm）、2029年為A7（7Å＝0.7納米）。
微觀電晶體結構層面，imec試圖在14Å節點使用Forksheet結構（p型和n型納米片電晶體成對排列，類似於用餐的叉子），10Å節點試圖採用CEFT結構，1納米（10Å）以下計劃採用原子形狀的溝道，依賴Mo（鉬）、W（鎢）、X為硫、Se硒、Te（碲）等2D材料和High NA（高數值孔徑）EUV光刻機來實現。
說到High NA EUV光刻機（0.55NA），一號原型機（EXE:5000）將在2023年由ASML提供給imec的聯合實驗室，2026年量產，從而服務1nm及更先進的節點。
