自籌7億元 又一國產公司攻關半導體卡脖子技術
在高端光刻膠方面，中國又一家公司加入戰場了，彤程新材宣布自籌7億元研發ArF高端光刻膠。
彤程新材公告，公司從實際生產經營需求出發，決定通過公司全資子公司彤程電子在上海化學工業區內使用自籌資金6.9853億元，投資建設「ArF 高端光刻膠研發平台建設項目」，項目預計於2023年末建設完成。
該項目主要研究 ArF 濕法光刻膠工業化生產技術開發，通過建立標準化的生產及控制流程，提升高端光刻膠的品質控制水平，實現193nm 濕法光刻膠量產生產；同時，逐步建立先進的積體電路及配套材料開發與應用評價平台。
ArF光刻膠涵蓋的製程技術很廣，可用於90nm-14nm甚至7nm 技術節點製造製程，廣泛應用於高端晶片製造（如邏輯晶片、 存儲晶片、AI 晶片、5G 晶片和雲計算晶片等）。
