全面擁抱EUV光刻 Intel自信表態：看我的表演
在10nm節點Intel的進度比預期晚了多年，很大一個原因跟EUV光刻機有關，Intel之前一直認為EUV技術不成熟，所以他們在10nm節點使用了四重曝光製程，量產難度大，導致10nm製程延期。
現在Intel的態度變了，對EUV光刻製程開始重視起來了，畢竟三星、台積電的EUV製程都量產幾年了，Intel也將在7nm節點全面使用EUV光刻製程，只不過該製程也跳票了，預計2023年才能量產。
在日前參加摩根大通的會議時，CEO基辛格表示，Intel將全面擁抱EUV光刻製程，大家能夠看到Intel對EUV製程進行多代重大改進，大家能看到電晶體級別的重大改進。
從Intel的表態來看，他們對EUV製程很有信心，不同廠商手中EUV製程的發揮情況也不同，Intel這番表態暗示他們會對EUV製程做出重大改進，甚至能深入到電晶體級別的升級改良。
