華為殺菌消毒口罩專利公開:可實現零化學污染殺滅細菌

自從去年全球新冠肺炎疫情蔓延以來, 全球各國人民的生活都與口罩緊緊聯繫在一起,作為最簡單有效的新冠病毒隔絕手段之一,大家到任何公共場所都需要口罩來保護自己和他人。

但是,普通的醫用口罩和KN95口罩都是有使用時限的,超過一定時間後,病毒隔絕的能力就會大大折扣,人們不得不經常更換口罩。

對此,華為想出了一個帶有主動殺菌消毒裝置的口罩。

根據企查查數據顯示,華為技術有限公司近日公開了一項名為「一種殺菌消毒裝置和口罩」的專利,公開號為CN213373959U,目前已經取得授權。

專利摘要中顯示,本申請提供一種殺菌消毒裝置和口罩,涉及具有殺菌消毒功能的設備技術領域,能夠提高殺菌消毒裝置內紫外光的利用率和殺菌消毒效率。

該殺菌消毒裝置包括殼體和紫外光源;所述殼體內設有腔體,所述殼體上設有入口和出口,所述入口和所述出口均與所述腔體連通,所述殼體包括殼體本體和設置於所述殼體本體的內表面的紫外光反射層,所述紫外光反射層用於反射紫外光;所述紫外光源用於向所述腔體內發出紫外光。

具體來看,這種裝置是通過波長為200nm~280nm的紫外光,俗稱為UVC,其能量非常高,能夠用於消毒殺菌,且不產生其他化學污染物。

此前,UVC被廣泛應用於凈水器、空調器、消毒櫃、醫療儀器、加濕器、飲水機、口罩等設備內,以對水、空氣、餐具等待殺菌物進行殺菌消毒處理。

華為殺菌消毒口罩專利公開:可實現零化學污染殺滅細菌