與ASML搶生意？Canon 時隔7年推新光刻機：效率提升17%

• 2021 年 1 月 6 日
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• Canon , 光刻機, 阿斯麥

日本的Canon 曾經是最大的光刻機製造商之一，後來逐漸衰微。但Canon 並沒有放棄光刻機業務。據日經中文網報道，Canon 將於2021年3月發售新型光刻機「FPA-3030i5a」，用來搶佔高功能半導體市場。

Canon 光刻機（圖源：日經中文網）

時隔7年，Canon 更新了面向小型基板的半導體光刻機，該設備使用波長為365納米的「i線」光源，支援直徑從2英寸（約5厘米）到8英寸（約20厘米）的小型基板，生產效率較以往機型提高了約17％。

就製程水平而言，Canon 的這款新型光刻機是入門級別的，它的最大價值在於幫助企業提高產能。

除了主流的硅晶圓之外，該機還可以提高小型晶圓較多的化合物半導體的生產效率。包括功率器件耐壓性等出色的碳化硅（SiC），以及作為5G相關半導體材料而受到期待的氮化鎵（GaN）等。

此外，Canon 還致力於研發「後期工序」（製作半導體晶片之後的封裝加工等）中使用的光刻機，比如去年7月推出的515毫米 x 510毫米大型基板的光刻機。

據悉，Canon 正在著力開展新一代生產製程的研發。