三星取消中間製程4nm:5nm後直接上馬3nm GAAFET

GF(格芯)退出7nm研發後,金字塔尖的先進位程製程爭奪主要圍繞台積電、Intel、三星開展。

最新消息稱,三星已經重修了製程路線圖,取消了此前用於過渡的4nm,在5nm為FinFET(鰭式場效應電晶體)後,直接上馬3nm GAAFET(環繞柵極電晶體)。

三星的4nm原定於2021年量產,可其真實身份無非5nm改良。對於三星取消的原因,一方面是3nm推進順利,另一方面則是市場競爭需要,如果能搶在台積電之前搞定技術難度更高的3nm GAAFET,無疑將為自己爭得可觀的機會。

三星取消中間製程4nm:5nm後直接上馬3nm GAAFET

三星如今的掌門人李在鎔非常看重晶片代工業務,這一切或也得到了他的授意。

此前,三星曾透露,3nm晶片相較於7nm FinFET,可以減少50%的能耗,增加30%的性能。

至於台積電的3nm,據說第一代還是FinFET,總投資高達500億美元,風險試產也推遲到了今年10月。

三星取消中間製程4nm:5nm後直接上馬3nm GAAFET