打破日美壟斷 國產ArF光刻膠取得重大突破:可用於7nm製程

作為半導體卡脖子的技術之一,很多人只知道光刻機,卻不知道光刻膠的重要性,這個市場也是被日本及美國公司壟斷TOP5廠商佔了全球85%的份額。

國產光刻膠此前只能用於低端製程生產線中,能做到G 線(436nm)、I 線 (365nm)水平,目前主要在用的ArF光刻膠還是靠進口,EUV光刻膠目前還沒有公司能生產,基本上都控制在日本公司手中。

不過EUV光刻膠也不是急需的,因為中國目前還沒有EUV製程量產,193nmArF光刻膠更加重要,目前中國有多家公司正在公關中,這種光刻膠可以用於28nm7nm製程的先進製程。

今天,南大光電在互動平台表示,公司的ArF光刻膠正在按計划進行客戶測試,這意味著中國的ArF光刻膠技術取得了重要突破,從研發開始走向生產。

根據南大光電公司之前的 消息,公司於2017年開始研發「193nm 光刻膠項目,已獲得國家「02 專項的相關項目立項,公司計劃通過3年的建設、投產及實現銷售,達到年產25 193nmArF乾式和浸沒式)光刻膠產品的生產規模,產品將滿足積體電路行業需求標準。

打破日美壟斷 國產ArF光刻膠取得重大突破:可用於7nm製程