中芯國際狂砸錢欲買ASML的EUV最新光刻機：這是真相！

• 2020 年 12 月 19 日
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• 光刻機, 阿斯麥

有消息稱，在新任副董事長蔣尚義的幫助下，中國芯片巨頭中芯國際將尋求與荷蘭半導體設備公司阿斯麥(ASML)就EUV光刻設備進行談判。

報道稱，中芯國際一直難以從阿斯麥獲得EUV光刻設備，儘管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響，但仍存顧慮。

對於中芯國際引入EUV （極紫外光源）光刻機事情，目前上市不被允許的，而ASML之前已經證實。

ASML CFO Roger Dassen表示，如果廣泛的來理解其規章制度對ASML的總體含義(對於特定的中國客戶)，則意味着ASML將能夠從荷蘭向這些中國客戶提供DUV光刻系統，且無需出口許可證，但是EUV （極紫外光源）光刻機是沒有機會的。

2018年4月，中芯國際向ASML訂購了一台 EUV 光刻機，價值1.2億美元（約合人民幣8億元），預計2019年年初交貨。後來此事被報道後，ASML回應稱，對包括中國客戶在內的全球客戶都一視同仁，且向中國出售EUV光刻機並沒有違反《瓦森納協定》。當時，荷蘭政府的確向 ASML 發放了出口許可證。

不過，最終這個交易也沒有形成，此後，關於 EUV 光刻機向中國出口，ASML 的官方說法一直是：公司仍在等待新許可證申請的批准。

目前的光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV光刻機，分為干分式與液浸式兩種。其中，液浸式於ASML手中誕生，其波長雖然有193nm，但等效為134nm，經過多重曝光後，液浸式光刻機也能夠達到7nm工藝。但是，每多一次曝光都會使得製造成本大大提升，而且良品率也難以控制。

EUV光刻機採用13.5nm波長的光源，是突破10nm芯片製程節點必不可少的工具。也就是說，就算DUV（深紫外線）光刻機能從尼康、佳能那裡找到替代，但如果沒有ASML的EUV光刻機，芯片巨頭台積電、三星、Intel的5nm產線就無法投產。