中國還需要EUV光刻機嗎？中芯國際：量產和研發工藝暫不需要

EUV光刻機是製造7nm以下節點先進工藝的必備工具，目前國內還沒有EUV設備。作為國內最先進的晶圓代工廠，中芯國際董事長周子學日前表態，該公司已經量產和研發的工藝還不需要EUV光刻機。

光刻是半導體芯片製造中最費時間也是最費成本的環節之一，而且它決定了芯片的工藝水平，常說的XXnm工藝主要是看光刻機水平，10nm工藝之後難度越來越大，光刻機也需要升級到EUV級別。

台積電在第一代7nm工藝上沒有使用EUV光刻機，但是7nm之後的工藝就很難避開EUV光刻機了，理論上可以用多重曝光的方式製造5nm級別的芯片，但是成本、良率都是個問題，無法拒絕EUV光刻機。

目前EUV光刻機只有荷蘭ASML公司才能生產，單台售價超過1.2億歐元，約合10億元一台，此前報道稱中芯國際訂購了一台EUV光刻機用於先進工藝研發，本應該在2019年交付，不過ASML公司一直沒被批准出售。

日前在回應投資者提問時，中芯國際董事長兼執行董事周子學表示，關於設備採購公司依據相關商業協議進行，不對單一設備的採購情況進行評論。公司目前量產和主要在研項目暫不需用到EUV光刻機。

根據中芯國際之前所說，在14nm工藝之後，中芯國際還有N+1、N+2代工藝，其中N+1工藝相比於14nm性能提升20％、功耗降低57％、邏輯面積縮小63％，SoC面積縮小55％，之後的N+2工藝性能和成本都更高一些，這兩個工藝都不需要EUV光刻機。